[发明专利]镀膜设备的框架式真空室有效
| 申请号： | 200880118008.0 | 申请日： | 2008-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN101878320A | 公开（公告）日： | 2010-11-03 |
| 发明（设计）人： | F·朱恩德;M·迈耶;S·克拉斯尼泽;J·格维亨伯格 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及镀膜设备的框架式真空室，该真空室包括一个用镶嵌板镶嵌的框架。镶嵌板与框架一起组成一个可产生真空的空间。该框架的蒙皮最好用一整块金属件切去大面积材料制成，由此形成镶嵌板的孔洞，其优点是，镶嵌板嵌入的地方没有焊缝。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 框架 真空 | ||
【主权项】：
镀膜设备的真空室布置有各种功能元件，该室包括一个室框架，镶嵌板以机械方式可拆卸地和密封地嵌入该框架中，且其中的一些镶嵌板支承功能元件，其特征为，该室框架包括至少一个用整块金属板成型的、带有板条的底面，这些板条在连接区这样弯折到该底面上，使它们构成室框架的支撑板。
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