[发明专利]基板传送装置、基板传送方法以及真空处理装置有效

申请号：	200880120677.1	申请日：	2008-12-09
公开（公告）号：	CN101889339A	公开（公告）日：	2010-11-17
发明（设计）人：	远山佳宏	申请（专利权）人：	株式会社爱发科
主分类号：	H01L21/677	分类号：	H01L21/677;B65G49/06
代理公司：	上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242	代理人：	段迎春
地址：	日本国***	国省代码：	日本;JP
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摘要：	一种使将基板以垂直状态传送的托架轻量化的基板传送装置。基板传送装置(11)向以垂直状态传送平板状的基板(W)的托架(23)交接基板，该基板传送装置(11)具备转移机构(22)。转移机构(22)包括：具有矩形的框体的、能以沿水平方向延伸的转动轴(L)为中心转动的框架(37)；设置在所述框架上，吸附所述基板(W)的多个吸垫(46)；和使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动的驱动部(35)。转移机构(22)在框架处于水平状态的情况下通过多个吸垫将处于水平状态的基板(W)吸附，在将基板保持在框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的基板(W)交接至托架(23)。
搜索关键词：	传送装置方法以及真空处理
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【主权项】：

一种基板传送装置，向以垂直状态传送平板状的基板的托架交接所述基板，其特征在于，包括：框架，其具有矩形的框体，并能够以沿水平方向延伸的转动轴为中心转动；多个吸垫，其设置在所述框架上，吸附所述基板；和驱动部，其使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动，所述转移机构在所述框架处于水平状态的情况下通过所述多个吸垫吸附处于水平状态的所述基板，在将所述基板保持在所述框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的所述基板交接至所述托架。

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专利分类

H 电学

H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造

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