[发明专利]曝光中使用的光掩膜有效
申请号: | 200910002649.6 | 申请日: | 2009-01-09 |
公开(公告)号: | CN101482695A | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
发明(设计)人: | 高木俊博 | 申请(专利权)人: | 三荣技研股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/14;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种光掩膜,将光掩膜分为描绘有图案的中央部分和其周围的力传递部分而制成,然后,进行接合,从而能够降低材料费用及避免新设备投资。光掩膜(1)分为包括图案显示区域(5)的中央部分(3)和包围中央部分(3)的外周缘部的力传递部分(4)而制成。两者由粘附胶带(7)相互接合。力传递部分(4)具有用于与力赋予机构连结的连结部(孔)(8),该力赋予机构用于使中央部分(3)弹性变形。 | ||
搜索关键词: | 曝光 使用 光掩膜 | ||
【主权项】:
1. 一种光掩膜,其在曝光中使用,在所述曝光中,通过将力施加在薄膜状光掩膜的周缘使该光掩膜弹性变形,从而改变在该光掩膜上描绘出的、包括多个对位标记的图案的尺寸及/或形状,由此使所述光掩膜和基板对位之后,将所述图案转印在所述基板上,所述光掩膜的特征在于,具备:中央部分,其描绘有所述图案;力传递部分,其与该中央部分独立制成,以作为整体包围所述中央部分的外周缘部的方式配置,且与该中央部分的外周缘部接合,该力传递部分具有用于与力赋予机构连结的连结部,该力赋予机构用于使所述中央部分弹性变形。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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