[发明专利]曝光中使用的光掩膜有效

专利信息
申请号: 200910002649.6 申请日: 2009-01-09
公开(公告)号: CN101482695A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 高木俊博 申请(专利权)人: 三荣技研股份有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/14;G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种光掩膜,将光掩膜分为描绘有图案的中央部分和其周围的力传递部分而制成,然后,进行接合,从而能够降低材料费用及避免新设备投资。光掩膜(1)分为包括图案显示区域(5)的中央部分(3)和包围中央部分(3)的外周缘部的力传递部分(4)而制成。两者由粘附胶带(7)相互接合。力传递部分(4)具有用于与力赋予机构连结的连结部(孔)(8),该力赋予机构用于使中央部分(3)弹性变形。
搜索关键词: 曝光 使用 光掩膜
【主权项】:
1. 一种光掩膜,其在曝光中使用,在所述曝光中,通过将力施加在薄膜状光掩膜的周缘使该光掩膜弹性变形,从而改变在该光掩膜上描绘出的、包括多个对位标记的图案的尺寸及/或形状,由此使所述光掩膜和基板对位之后,将所述图案转印在所述基板上,所述光掩膜的特征在于,具备:中央部分,其描绘有所述图案;力传递部分,其与该中央部分独立制成,以作为整体包围所述中央部分的外周缘部的方式配置,且与该中央部分的外周缘部接合,该力传递部分具有用于与力赋予机构连结的连结部,该力赋予机构用于使所述中央部分弹性变形。
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