[发明专利]曝光头、图像形成组件、以及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 200910005321.X 申请日: 2009-02-05
公开(公告)号: CN101503030A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 樱井和德 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/447 分类号: B41J2/447
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;李 伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供可正确掌握发光强度的经时劣化的曝光头、图像形成组件及图像形成装置。该曝光头(29)具有发光基板(300),该发光基板具有透光性基板(301);配置在透光性基板的一个面上的多个发光元件(310);和被配置在透光性基板(301)上的1个或多个光检测部件(320),其可检测出从发光元件(310)射出并在透光性基板内传播的光;该曝光头将从发光元件(310)射出并透过了透光性基板(301)的光,照射到隔着透光性基板(301)与发光元件(310)对置的像担承体(21)上,在像担承体(21)上形成规定的图形,透光性基板(301)内形成有使在该透光性基板内传播的光漫反射的多个改质点(330)。
搜索关键词: 曝光 图像 形成 组件 以及 装置
【主权项】:
1. 一种曝光头,具有:透光性基板;配置在所述透光性基板的一个面上的多个发光元件;和被配置在所述透光性基板的1个或多个光检测部件,其可检测出从所述发光元件射出并在所述透光性基板内传播的光;该曝光头将从所述发光元件射出并透过了所述透光性基板的光,照射到隔着所述透光性基板与所述发光元件对置的像担承体上,在所述像担承体上形成规定的图形,其特征在于,所述透光性基板内形成有使在该透光性基板内传播的光漫反射的多个改质点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910005321.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top