[发明专利]微影装置及微影装置的平衡晶片的方法有效

专利信息
申请号: 200910005758.3 申请日: 2009-02-06
公开(公告)号: CN101655668A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 周世翔;邓国星;郭养国 申请(专利权)人: 采钰科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 王玉双;黄 艳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种微影装置及微影装置的平衡晶片的方法,所述方法包括以下步骤:将一晶片放置于微影装置中,且晶片被一夹盘支撑,使用至少三个影像撷取组件,撷取晶片上对应影像撷取组件的对准记号,及依据影像撷取组件所撷取的晶片上的对准记号的清晰度,平衡晶片。所述微影装置,包括用以支撑一晶片的夹盘;及用以撷取该晶片上的对准记号的至少三个影像撷取组件,其以三角的方式分别设置于该夹盘的三个角落。由此,不需要将平衡球装设在WEC单元上接触光罩,如此当晶片或晶片上的层均匀度不佳,或当微粒掉落在晶片上时,并不会产生沾黏的现象,且由于摄影机的焦距是μm等级,本发明相对于现有技术而言,有较佳的精确度和敏感度。
搜索关键词: 装置 平衡 晶片 方法
【主权项】:
1.一种微影装置的平衡晶片的方法,包括:将一晶片放置于该微影装置中,且该晶片被一夹盘支撑;使用至少三个影像撷取组件,撷取该晶片上对应所述影像撷取组件的对准记号;及依据所述影像撷取组件所撷取的该晶片上的对准记号的清晰度,平衡该晶片。
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