[发明专利]曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法有效
| 申请号： | 200910009907.3 | 申请日： | 2004-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN101504512A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陆锦华;关兆辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法。为了在对一个晶片载置台(WST1)上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台(WST1、WST2)的替换，使另一个晶片载置台(WST2)暂时位于一个晶片载置台的下方，通过包含该步骤，可以在对一个晶片载置台上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台的替换动作(交换动作)，上述两个晶片载置台的替换动作基于使另一个晶片载置台暂时位于该一个晶片载置台的下方的方式，这样一来，与从对一个晶片载置台上的晶片的曝光动作结束的时刻开始进行两个晶片载置台的替换动作时相比，可在短时间内进行该替换。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 载置台 设备 制造 | ||
【主权项】：
1. 一种曝光方法，交互地对分别保持在两个支架上的基板进行曝光处理，其特征在于，包括以下步骤：在对一个支架上的基板进行曝光动作之后对另一个支架上的基板进行曝光动作时，使保持结束了曝光动作的基板的支架暂时位于保持接下来进行曝光动作的基板的支架的下方。
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