[发明专利]离线浅绿色低辐射镀膜玻璃及其制备方法有效
申请号: | 200910027354.4 | 申请日: | 2009-05-31 |
公开(公告)号: | CN101654334A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | 杨德兵;王贤荣 | 申请(专利权)人: | 江苏蓝星玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/06 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 226006江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种离线高透低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,玻璃基片上设有依次设有氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx。离线浅绿色低辐射镀膜玻璃的制备方法为:在双端离线高真空磁控溅射镀膜设备中,使其基础真空达到103Pa,线速度为2米/分钟时,对玻璃基片依次溅射氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx。本发明具有在不使用绿玻为基片的情况下,可以使镀膜玻璃的a*值≤-8,且价格低廉,工艺稳定的优点。 | ||
搜索关键词: | 离线 浅绿色 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种离线浅绿色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,其特征在于:所述玻璃基片上依次设有氧化钛TiOx、氧化锡SnOx、金属银Ag层、氧化镍铬NiCrOx、氧化锡SnOx、氮化硅SiNx。
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