[发明专利]一种酚类纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法无效
| 申请号： | 200910029992.X | 申请日： | 2009-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101543765A | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 胡琴;朱荣;魏芳弟;赵文慧;蔡政;李飞 | 申请（专利权）人： | 南京医科大学 |
| 主分类号： | B01J20/283 | 分类号： | B01J20/283;B01J20/30 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陆志斌 |
| 地址： | 210029*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种酚类纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，制备步骤为：将纳米级SiO2加入到致孔剂中，超声分散均匀；向上步所得含有SiO2的致孔剂中加入模板分子、功能单体和交联剂正硅酸四乙酯，搅拌反应液后离心，将离心后所得固体烘干；将烘干所得固体用有机溶剂和无机酸的混合溶液洗涤，去除未反应的功能单体、模板份子和交联剂，再用稀碱液和超纯水洗涤固体至洗脱液为中性，离心后所得固体在80～100℃烘干，得到酚类纳米硅胶表面分子印迹材料。本发明采用纳米级SiO2作为印迹的载体，故所合成纳米硅胶表面分子印迹材料具有极高的比表面积，因此吸附容量大，特异性最大表观结合数Qmax可达16.43μmol/g。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 硅胶 表面 分子 印迹 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种酚类纳米硅胶表面分子印迹材料的制备方法，其特征在于制备步骤为：a. 将纳米级SiO2加入到致孔剂中，超声分散均匀；所述SiO2的质量与致孔剂的体积比例g/ml为0.01～0.02∶1；b. 向上步所得含有SiO2的致孔剂中加入模板分子、功能单体和交联剂正硅酸四乙酯，所述纳米SiO2的质量与模板分子的摩尔比例g/mmol为0.05～0.5∶1，交联剂与功能单体的体积比为2～4∶1，模板分子与功能单体的摩尔比例为0.1～0.33∶1；在温度10～40℃下搅拌反应液10～24h后离心，将离心后所得固体烘干；将烘干所得固体用有机溶剂和无机酸的混合溶液洗涤，去除未反应的功能单体、模板份子和交联剂，再用稀碱液和超纯水洗涤固体至洗脱液为中性，离心后所得固体在80～100℃烘干，得到酚类纳米硅胶表面分子印迹材料。
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