[发明专利]带边缘曝光保护的工件台有效
| 申请号： | 200910046830.7 | 申请日： | 2009-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN101487990A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 周清华 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于硅片曝光工艺的带边缘曝光保护的工件台，包括：托盘，其中所述硅片置于所述托盘上；保护环，其中所述保护环的内直径小于所述硅片直径，且所述保护环置于所述托盘边缘上方；驱动定位装置，推动所述保护环移动；真空腔，置于所述保护环下方；其中，当所述保护环推到预设位置时，所述真空腔吸附所述保护环。本发明的边缘保护功能的机构结构简单，定位重复定位精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 曝光 保护 工件 | ||
【主权项】：
1. 一种带边缘曝光保护的工件台，用于硅片曝光工艺，其特征在于，包括：托盘，其中所述硅片置于所述托盘上；保护环，其中所述保护环的内直径小于所述硅片直径，且所述保护环置于所述托盘边缘上方；驱动定位装置，推动所述保护环移动；真空腔，置于所述保护环下方；其中，当所述保护环推到预设位置时，所述真空腔吸附所述保护环。
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