[发明专利]无缝镭射膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200910052416.7 | 申请日： | 2009-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN101628526A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 陈叔安 | 申请（专利权）人： | 上海上塑控股（集团）有限公司 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04;B44C1/24;B41M3/12 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何新平 |
| 地址： | 201414上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无缝镭射膜及其制备方法，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为PET膜层、树脂涂层和铝层，其制备方法流程为PET膜层成型、涂布、模压、镀铝、复纸和印刷，在完成第一次模压后再进行一次模压，并在压辊中添加可注入水的管道以控制温度，通过上述方法制备的镭射膜不出现周期性的版缝，减少了后续生产的损耗，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 无缝 镭射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种无缝镭射膜，其特征在于包括三层结构，由下至上的顺序依次为载体层、镭射成像层和铝层。
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