[发明专利]位线预处理存储装置及方法有效

专利信息
申请号: 200910057473.4 申请日: 2009-06-25
公开(公告)号: CN101930795A 公开(公告)日: 2010-12-29
发明(设计)人: 杨俊 申请(专利权)人: 上海华虹NEC电子有限公司
主分类号: G11C11/413 分类号: G11C11/413;G11C7/12
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 孙大为
地址: 201206 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种位线预处理存储装置及方法;包括至少两条位线,以及与位线相连接的存储单元,一个P型MOS晶体管和一个N型MOS晶体管;所述的P型MOS晶体管的源极和漏极分别与两条位线连接;所述的N型MOS晶体管的源极和漏极分别与两条位线连接;所述的P型MOS晶体管和N型MOS晶体管形成一个传输门将两条位线连接起来平衡位线间的电位;位线在非读写状态下浮空。本发明可以有效降低整个静态随机存储器静态的漏电,有效降低整个静态随机存储器总体动态电流,大幅减少存储器的功耗。
搜索关键词: 预处理 存储 装置 方法
【主权项】:
一种位线预处理存储装置;包括至少两条位线,以及与位线相连接的存储单元,其特征在于,还包括:一个P型MOS晶体管和一个N型MOS晶体管;所述的P型MOS晶体管的源极和漏极分别与两条位线连接;所述的N型MOS晶体管的源极和漏极分别与两条位线连接;所述的P型MOS晶体管和N型MOS晶体管形成一个传输门将两条位线连接起来平衡位线间的电位;位线在非读写状态下浮空。
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