[发明专利]钙钛矿结构镧锰氧化物/氧化锡异质p-n结及其制备方法无效
申请号: | 200910076299.8 | 申请日: | 2009-01-09 |
公开(公告)号: | CN101459194A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 张铭;王宪谋;严辉;宋雪梅;王波;朱满康;侯育冬;王如志;汪浩 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L29/24 | 分类号: | H01L29/24;H01L21/04;H01L21/363;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/54 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张 慧 |
地址: | 100124*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 钙钛矿结构镧锰氧化物/氧化锡异质p-n结及其制备方法明属于材料制造领域。目前还没有镧锰氧化物与氧化锡复合的p-n结。本发明所提供的p-n结包括有单晶衬底、沉积在单晶衬底上的厚度为100-300nm的SnO2层和沉积在SnO2层上的厚度为100-300nm的LSMO层。本发明通过采用磁控溅射法依次在沉底上沉积SnO2层和LSMO层,制得钙钛矿结构镧锰氧化物/氧化锡异质p-n结。本发明所提供的p-n结具有优异的整流特性,且成本低廉,适合工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 钙钛矿 结构 氧化物 氧化 锡异质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种钙钛矿结构镧锰氧化物/氧化锡异质p-n结,其特征在于,所述的p-n结包括有单晶衬底、沉积在单晶衬底上的SnO2层和沉积在SnO2层上的LSMO层;其中,所述的SnO2层的厚度为100-300nm;所述的LSMO层的厚度为100-300nm。
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