[发明专利]水平电场模式彩膜基板及其制造方法无效
| 申请号： | 200910078373.X | 申请日： | 2009-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101819348A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 董学 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 曲鹏 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种水平电场模式彩膜基板及其制造方法。水平电场模式彩膜基板包括形成在基板上的黑矩阵图形、彩色树脂图形、保护层和取向膜，所述基板与取向膜之间还设置有用于消除取向膜摩擦工艺中产生静电的导电图形。制造方法为：在基板上形成黑矩阵图形、彩色树脂图形、保护层和取向膜的步骤中还包括在所述基板与取向膜之间形成用于消除取向膜摩擦工艺中产生静电的导电图形的步骤。本发明通过在基板与取向膜之间设置用于消除取向膜摩擦工艺中产生静电的导电图形，与现有技术相比，本发明有效改善了导电图形释放静电的能力，可以实现完全消除摩擦静电，提高了摩擦工艺的均一性，改善了液晶显示器的对比度，从而提高了液晶显示器的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 水平 电场 模式 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种水平电场模式彩膜基板，包括形成在基板上的黑矩阵图形、彩色树脂图形、保护层和取向膜，其特征在于，所述基板与取向膜之间还设置有用于消除取向膜摩擦工艺中产生静电的导电图形。
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