[发明专利]掩膜板检测装置及检测方法有效
申请号: | 200910089983.X | 申请日: | 2009-07-30 |
公开(公告)号: | CN101989038A | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | 董云;彭志龙 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/66 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种掩膜板检测装置及检测方法。该检测装置包括:检测板,由绝缘材料制成;电阻块,采用感光电阻材料制成,设置在检测板的表面上;控制模块,与电阻块相连,用于检测电阻块的电阻值并进行识别,当识别出电阻块的电阻值变化量大于或等于设定值时产生报警信息。该检测方法包括:将绝缘材料的检测板与掩膜板平行且重叠布设;发射光线穿过掩膜板照射到检测板的电阻块上;检测电阻块的电阻值并进行识别,当识别出电阻块的电阻值变化量大于或等于设定值时产生报警信息。本发明利用了感光电阻材料的电阻块,结合曝光光线照射,实现了对掩膜板图案变化的检测,具有较高的检测准确性,能够预防掩膜板图案变化对后续曝光刻蚀操作的影响。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 检测 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜板检测装置,其特征在于,包括:检测板,由绝缘材料制成;电阻块,采用感光电阻材料制成,设置在所述检测板的表面上,用于在检测板与掩膜板平行且重叠设置时,接受穿过所述掩膜板照射在检测板上的光线;控制模块,与所述电阻块相连,用于检测所述电阻块的电阻值并进行识别,当识别出电阻块的电阻值变化量大于或等于设定值时产生报警信息。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910089983.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:离散余弦转换及其逆转换电路
- 下一篇:LED驱动器的浪涌电流限流器
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备