[发明专利]光刻胶涂布装置有效
| 申请号： | 200910090520.5 | 申请日： | 2009-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN101995773A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 焦宇;张学智;宋瑞涛;王辉;苏九端;王江;刘杰 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶涂布装置，包括：包括光刻胶涂布装置本体，所述光刻胶涂布装置本体的喷嘴的外部罩设有用于将所述喷嘴与基板上的杂质隔离开的保护模块。所述喷嘴包括沿所述喷嘴运动方向相对设置的第一表面，所述保护模块包括两个第一保护单元，所述两个第一保护单元通过固定装置固定在所述第一表面上，并形成狭缝。本发明光刻胶涂布装置以现有的光刻胶涂布装置本体为基础，在光刻胶涂布装置本体上的喷嘴的外部固定保护模块，通过该保护模块将喷嘴与基板上的杂质隔离开，从而防止喷嘴通过该保护模块在基板表面运动涂布光刻胶的时候被基板上的杂质损坏，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶涂布 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻胶涂布装置，包括光刻胶涂布装置本体，其特征在于，所述光刻胶涂布装置本体的喷嘴的外部罩设有用于将所述喷嘴与基板上的杂质隔离开的保护模块。
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