[发明专利]纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法有效
申请号: | 200910108044.5 | 申请日: | 2009-06-09 |
公开(公告)号: | CN101923282A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 朱振东;李群庆;张立辉;陈墨 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 北京市海淀区清华园1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种纳米压印抗蚀剂,该纳米压印抗蚀剂包括以下组分:高支化低聚物,全氟基聚乙醚,甲基丙烯酸甲酯,以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂,具有热压温度低,有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单,成本较低,获得的纳米图形的图保真度好,分辨率高。 | ||
搜索关键词: | 纳米 压印 抗蚀剂 采用 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米压印抗蚀剂,其特征在于:该纳米压印抗蚀剂包括以下组分:高支化低聚物,全氟基聚乙醚,甲基丙烯酸甲酯以及有机稀释剂。
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