[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 200910118213.3 | 申请日： | 2009-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101546133A | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 佐藤仁;山贺胜 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光装置和曝光方法。该曝光装置(100)是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体(T)送至曝光台(50)上，并将掩膜(M)的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置(100)具有：按压被曝光体的压板(42)；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(MM)的图像识别部(54)；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部(43)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种曝光装置，该曝光装置将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体送至曝光台上，并将掩膜的电路图案曝光在被曝光体上，其特征在于，具有：按压所述被曝光体的压板；用于观察形成在所述被曝光体上的第1校准识别标记和形成在所述掩膜上的第2校准识别标记的图像识别部；使所述压板和所述图像识别部同时向所述被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部。
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