[发明专利]电光装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200910118224.1 | 申请日： | 2009-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101520582A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 茂筑宽士 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/133;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种电光装置及其制造方法。该电光装置，至少具备：基板(10)、形成于基板上的具有预定宽度的第1遮光膜(73)、形成于第1遮光膜(73)上的第1层间绝缘膜(41)、形成于第1层间绝缘膜(41)上的晶体管(30)、形成于晶体管(30)上的第2层间绝缘膜(42)、和形成于第2层间绝缘膜(42)上的第2遮光膜(30)，其特征为：晶体管(30)的半导体层(1)，以从基板(10)侧由第1遮光膜(73)覆盖的方式设置，并且以从与基板(10)相反侧由第2遮光膜(70)覆盖的方式设置；第2遮光膜(70)，形成得比第1遮光膜(73)宽；第1层间绝缘膜的膜厚最薄的部分，俯视存在于第1遮光膜的端部与第2遮光膜的端部之间。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种电光装置，至少具备：基板、形成于所述基板上的具有预定宽度的第1遮光膜、形成于所述第1遮光膜上的第1层间绝缘膜、形成于所述第1层间绝缘膜上的晶体管、形成于所述晶体管上的第2层间绝缘膜、和形成于所述第2层间绝缘膜上的第2遮光膜，该电光装置的特征在于，上述晶体管的半导体层，以从上述基板侧由上述第1遮光膜覆盖的方式设置，并且以从与上述基板相反侧由上述第2遮光膜覆盖的方式设置；所述第2遮光膜，形成得比所述第1遮光膜宽；所述第1层间绝缘膜的膜厚最薄的部分，俯视存在于所述第1遮光膜的端部与所述第2遮光膜的端部之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910118224.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：获得碳酸钠晶体的方法
- 下一篇：包括在空间可动的待观察的物体的设备
