[发明专利]缺陷检查方法无效
申请号: | 200910118919.X | 申请日: | 2009-03-06 |
公开(公告)号: | CN101526485A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 福岛徹哉 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | G01N21/956 | 分类号: | G01N21/956;H01L21/66 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明目的在于为了提高针对于基板检查的基板检查装置的运转率,提供一种能够提高生产量的缺陷检查方法。因此,配方服务器执行设定基板的检查区域作为配方的初始设定的检查区域设定工序,配方服务器执行设定用于拍摄的光学条件的光学条件设定工序,基板检查装置执行使用包括光学条件和由配方服务器所设定的检查区域的暂定配方来拍摄基板从而获取图像数据的图像获取工序,配方服务器执行使用由基板检查装置所获取的图像数据来调整暂定配方从而生成调整配方的配方调整工序,基板检查装置执行根据由配方服务器进行了配方调整后的调整配方,对基板进行检查的检查工序。 | ||
搜索关键词: | 缺陷 检查 方法 | ||
【主权项】:
1.一种缺陷检查方法,该方法是在经由网络而将依次拍摄多个基板来对缺陷进行检查的基板检查装置和对所述基板检查装置中所利用的配方进行设定的配方服务器连接起来的缺陷检查系统中,进行新品种基板的检查时的缺陷检查方法,其特征在于,该缺陷检查方法具有:检查区域设定工序,在检查其他品种基板的过程中,至少设定所述基板的检查区域,作为由所述配方服务器进行的新品种基板的所述配方的初始设定;光学条件设定工序,设定用于所述摄像的光学条件;暂定检查工序,所述基板检查装置使用包括所述光学条件和由所述配方服务器所设定的所述检查区域的暂定配方来拍摄所述基板从而获取图像数据;配方调整工序,由所述配方服务器执行,使用由所述基板检查装置所获取的图像数据来修改所述暂定配方从而生成调整配方;以及主检查工序,所述基板检查装置根据所述配方服务器所修改的所述调整配方来检查所述基板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥林巴斯株式会社,未经奥林巴斯株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910118919.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:开关装置
- 下一篇:一种可改善硫族半导体薄膜性能的水热处理方法