[发明专利]多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法有效

专利信息
申请号: 200910129752.7 申请日: 2009-03-26
公开(公告)号: CN101546116A 公开(公告)日: 2009-09-30
发明(设计)人: 山口昇;三好将之 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 多色调光掩模及其制造方法、以及图案转印方法。本发明的多色调光掩模的制造方法在透明基板(21)上分别形成遮光膜(22)以及透过曝光光的一部分的半透光膜(24),并通过对各个膜实施规定的构图而形成含有遮光部、透过曝光光的一部分的半透光部以及透光部的转印图案,该制造方法的特征在于,对所述半透光膜(24)和所述遮光膜(22)分别实施基于湿蚀刻的构图,形成所述转印图案,对所述转印图案中半透光膜的至少一部分进行表面改质处理,改变所述半透光膜(24)的曝光光透过率变化,减小所述转印图案中存在的半透光部的透过率面内分布范围。
搜索关键词: 多色 调光 及其 制造 方法 以及 图案
【主权项】:
1. 一种多色调光掩模,其在透明基板上分别形成有遮光膜以及透过曝光光的一部分的半透光膜,并通过对各个膜实施规定的构图而形成包含遮光部、透过曝光光的一部分的半透光部以及透光部的转印图案,该多色调光掩模的特征在于,在所述半透光膜的至少一部分上,至少对表面部分进行改质,并且所述转印图案中存在的半透光部的透过率面内分布范围为2%以内。
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