[发明专利]具有阻绝层的抛光垫和其制造方法有效
| 申请号： | 200910130360.2 | 申请日： | 2009-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN101850541A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;王俊达;刘玮得 | 申请（专利权）人： | 贝达先进材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;B24D11/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有阻绝层的抛光垫和其制造方法，所述抛光垫包括底材、阻绝层和研磨层。所述底材是以高分子体包覆纤维层而成。所述阻绝层位于所述底材上。所述研磨层位于所述阻绝层上，所述研磨层为高分子弹性体且具有多个长柱状孔隙。因而，所述阻绝层可防止研磨液在抛光过程中渗透到底材，以提高抛光研磨效果和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 阻绝 抛光 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光垫，其包括：底材，其以高分子体包覆纤维层而成；阻绝层，其位于所述底材上；和研磨层，其位于所述阻绝层上，所述研磨层为高分子弹性体且具有多个长柱状孔隙。
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