[发明专利]基板处理系统及显影方法有效
| 申请号： | 200910131239.1 | 申请日： | 2009-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101526760A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 曾振助;徐士超;林欣洵;刘孟容 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁 挥;祁建国 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基板处理系统及显影方法，包含水洗管路装置、喷洒装置及气体管路装置。水洗管路装置用以控制水的通入。喷洒装置经由输送管路连接水洗管路装置，并用以对基板喷洒液态物质。气体管路装置与水洗管路装置并联相接，且经由输送管路连接喷洒装置，并用以控制气体的通入，将输送管路以及喷洒装置中残余的物体喷出。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 系统 显影 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理系统，其特征在于，包含：一水洗管路装置，用以控制水的通入；一喷洒装置，经由一输送管路连接该水洗管路装置，并用以对该基板喷洒液态物质；以及一气体管路装置，与该水洗管路装置并联相接，且经由该输送管路连接该喷洒装置，并用以控制气体的通入，将该输送管路以及该喷洒装置中残余的物体喷出。
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