[发明专利]坐标检测设备的制造装置有效
| 申请号： | 200910139059.8 | 申请日： | 2009-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN101582003A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | 近藤幸一 | 申请（专利权）人： | 富士通电子零件有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/045 | 分类号： | G06F3/045 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吕林红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种坐标检测设备的制造装置，该坐标检测设备包括形成在基板上的电阻膜和向该电阻膜施加电压的共用电极，其中，在电阻膜上产生电位分布，检测出电阻膜在接触位置处的电位，并且检测出电阻膜的接触位置的坐标。在该制造装置中，激光光源照射激光以除去电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分；光学系统使激光会聚；多个探头在共用电极向电阻膜提供电压的情况下测量电阻膜的表面的电位；X-Y工作台至少二维地使基板移动；控制部分控制X-Y工作台和激光光源。 | ||
| 搜索关键词： | 坐标 检测 设备 制造 装置 | ||
【主权项】：
1.一种坐标检测设备的制造装置，该坐标检测设备包括形成在基板上的电阻膜和向该电阻膜施加电压的共用电极，其中，在电阻膜上产生电位分布，检测出所述电阻膜在与探头接触的位置处的电位，并且检测出所述电阻膜上的该位置的坐标，该制造装置包括：激光光源，照射激光以除去所述坐标检测设备的电阻膜的一部分，形成电阻膜除去部分；光学系统，使激光会聚；多个探头，在经由所述共用电极向所述坐标检测设备的电阻膜施加了电压的状态下测量所述电阻膜的表面的电位；X-Y工作台，至少二维地使所述坐标检测设备的基板移动；以及控制部分，控制所述X-Y工作台和所述激光光源。
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