[发明专利]坐标位置检测设备的制造方法有效
| 申请号： | 200910140576.7 | 申请日： | 2009-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101587411A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 近藤幸一 | 申请（专利权）人： | 富士通电子零件有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/045 | 分类号： | G06F3/045;B23K26/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吕林红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种坐标位置检测设备的制造方法，该制造方法包括以下步骤：在具有矩形结构的基板的四个边的电阻膜上形成共用电极；利用与所述电阻膜的表面接触的多个探头，测量所述电阻膜的电位，其中所述电位从所述共用电极被提供给所述电阻膜；由计算部分根据所测量的电位的值来计算电阻膜除去区域，从而使所述电阻膜的电位分布均匀；以及通过激光除去由所述计算部分计算的电阻膜除去区域中的电阻膜。 | ||
| 搜索关键词： | 坐标 位置 检测 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种坐标位置检测设备的制造方法，该坐标位置检测设备包括：形成在基板上的电阻膜；和构成为向该电阻膜施加电压的共用电极，其中，通过从所述共用电极向所述电阻膜提供电位，在所述电阻膜上产生电位分布，检测出所述电阻膜被接触的位置的电位，从而检测出所述电阻膜的接触位置的坐标，所述坐标位置检测设备的制造方法包括以下步骤：在具有矩形结构的基板的四个边的电阻膜上形成共用电极；利用与所述电阻膜的表面接触的多个探头，测量所述电阻膜的电位，其中所述电位从所述共用电极被提供给所述电阻膜；由计算部分根据所测量的电位的值来计算电阻膜除去区域，从而使所述电阻膜的电位分布均匀；以及通过激光除去由所述计算部分计算的电阻膜除去区域中的电阻膜。
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