[发明专利]借助“像素偏移”生成分辨率提高的三维对象的方法

摘要

本发明涉及一种用于借助掩模曝光通过逐层固化可在电磁辐射作用下固化的材料来制造三维对象的方法和装置，其中掩模由具有固定分辨率的成像单元产生，掩模由恒定数量的离散的且在空间上相互固定设置的成像元素(像素)形成。为了改善在亚像素范围中沿着要逐层产生的对象的横截面的外轮廓和内轮廓的分辨率，对每一层进行多次曝光，该多次曝光由图像面/构造面中在亚像素范围内相互偏移的多个图像序列组成，其中对每个偏移的图像生成单独的掩模/位图。

主权项

1.一种用于生成位图的方法，所述位图用于引导电磁辐射从光栅化的成像单元到可在电磁辐射作用下固化的材料的表面上的投影，其中所述成像单元具有成像矩阵，所述方法包括：定义坐标系；提供限定内部区域的矢量线，其中矢量线的内部区域对应于要由可固化材料形成的对象的轮廓；限定包括多个位图栅格单元的位图，其中每个位图栅格单元对应于成像矩阵中的位置；将位图叠加到坐标系上，以限定相对于坐标系的第一位图位置；将矢量线叠加在坐标系上；计算每个位图栅格单元与内部区域之间的第一重叠程度，其中每个栅格单元的第一重叠程度对应于当位图相对于坐标系位于第一位图位置时内部区域的部分占据每个位图栅格单元的面积；将位图偏移到相对于坐标系的第二位图位置；以及计算每个位图栅格单元与内部区域之间的第二重叠程度，其中第二重叠程度对应于当位图相对于坐标系位于第二位图位置时内部区域的部分占据每个位图栅格单元的面积。