[发明专利]基底对准设备和基底处理设备无效
| 申请号： | 200910159687.2 | 申请日： | 2009-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN101640181A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 长谷川雅己;金子一秋 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张 涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将基底与参考点对准的基底对准设备，该基底对准设备包括：多个柱，其构造成绕与其相应的轴向方向平行的旋转轴线旋转；驱动机构，其构造成将多个柱沿相同方向同步地旋转通过相同的角度；检测器，其构造成检测基底从参考点偏离的位置偏差的量；以及支撑销，其位于多个柱的上表面上且同时与多个柱的相应的旋转轴线间隔开，并且构造成支撑基底，其中基于由检测器检测到的位置偏差的量，通过由驱动机构使多个柱沿相同方向同步地旋转通过相同的角度，而使基底对准。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 对准 设备 处理 | ||
【主权项】：
1.一种用于将基底与参考点对准的基底对准设备，该设备包括：多个柱，其构造成绕与相应的轴向方向平行的旋转轴线旋转；驱动机构，其构造成使所述多个柱沿相同方向同步地旋转通过相同的角度；检测器，其构造成检测所述基底从所述参考点偏离的位置偏差的量；以及支撑销，其位于所述多个柱的上表面上且同时与所述多个柱的相应的旋转轴线间隔开，并且构造成支撑所述基底，其中基于由所述检测器检测到的位置偏差的量，通过由所述驱动机构使所述多个柱沿相同方向同步地旋转通过相同的角度，而使所述基底对准。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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