[发明专利]半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910159892.9 申请日: 2009-07-16
公开(公告)号: CN101645451A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 吉田毅 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L51/50;H01L21/82
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种半导体器件(1),包括:具有入射光的光入射面(30b)和光电二极管部(30a)的半导体薄膜(30);在光入射面(30b)的相反侧的半导体薄膜(30)的表面的上方设置的、具有凸面(62a)的中间层(62);以及在凸面(62a)的表面上设置的、具有把光向光电二极管部(30a)的方向反射的凹面(70a)的凹面反射层(70)。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:具有入射光的光入射面和光电二极管部的半导体薄膜;在上述光入射面的相反侧的上述半导体薄膜的表面的上方设置的、具有凸面的中间层;以及在上述凸面的表面上设置的、具有把上述光向上述光电二极管部的方向反射的凹面的凹面反射层。
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