[发明专利]用聚焦的粒子束加工工件的方法无效

专利信息
申请号: 200910161890.3 申请日: 2009-08-07
公开(公告)号: CN101644644A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: J·J·L·穆尔德斯;A·P·J·M·博特曼;B·H·弗赖塔格 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32;G01N23/04;G01N23/203
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;李家麟
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用聚焦的粒子束加工工件的方法。本发明涉及用于为例如TEM检查产生高质量的样本的方法。在利用例如聚焦的离子束装置(FIB)变薄样本时,该样本通常在从FIB中取出时由于暴露在空气中而氧化。这导致低质量的样本,其不适合用于进一步的分析。通过在样本上原位(即在从FIB中取出样本之前)形成钝化层(优选的氢钝化层),可以获得高质量的样本。
搜索关键词: 聚焦 粒子束 加工 工件 方法
【主权项】:
1、一种用聚焦的粒子束加工工件以形成样本的方法,包括:·将所述工件插入到粒子-光学装置中;·通过将所述工件暴露在聚焦的粒子束中来加工所述工件以形成所述样本;以及·从所述粒子-光学装置中移出所述样本,其特征在于:·在将所述样本从所述粒子-光学装置中移出之前在所述样本上形成钝化层;以及·所述钝化层不是氧化层。
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