[发明专利]共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物及共轭二烯系聚合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910166656.X 申请日: 2009-08-26
公开(公告)号: CN101659728A 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 大岛真弓 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08F236/04 分类号: C08F236/04;C08F236/10;C08F230/08;C08C19/25;C08L15/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种共轭二烯系聚合物,其具有基于共轭二烯的结构单元和右式(I)所示的结构单元,其是聚合物的至少一端被右式(II)所示的化合物改性而成的[式中,X1、X2及X3分别独立地表示右式(Ia)所示的基团、羟基、烃基或取代烃基,X1、X2及X3的至少1个为下式(Ia)所示的基团或羟基。式中,R1及R2分别独立地表示碳原子数为1~6的烃基、碳原子数为1~6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基,R1及R2可以键合并与氮原子一起形成环结构。[式中,n表示1~10的整数,R3、R4及R5分别独立地表示碳原子数为1~4的烃基或碳原子数为1~4的烃氧基,R3、R4及R5的至少1个为烃氧基,A表示具有氮原子的官能团]。
搜索关键词: 共轭 二烯系 聚合物 组合 制造 方法
【主权项】:
1、一种共轭二烯系聚合物,其特征在于,其具有基于共轭二烯的结构单元和下式(I)所示的结构单元,其是聚合物的至少一端被下式(II)所示的化合物改性而成的,式中,X1、X2及X3分别独立地表示下式(Ia)所示的基团、羟基、烃基或取代烃基,并且X1、X2及X3中的至少1个为下式(Ia)所示的基团或羟基,式中,R1及R2分别独立地表示碳原子数为1~6的烃基、碳原子数为1~6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基,R1及R2也可以键合并与氮原子一起形成环结构,式中,n表示1~10的整数,R3、R4及R5分别独立地表示碳原子数为1~4的烃基或碳原子数为1~4的烃氧基,并且R3、R4及R5中的至少1个为烃氧基,A表示具有氮原子的官能团。
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