[发明专利]无电解镀液、使用其的无电解镀方法及线路板的制造方法有效
申请号: | 200910166945.X | 申请日: | 2009-06-30 |
公开(公告)号: | CN101671820A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 堀田辉幸;石崎隆浩;川濑智弘;竹内雅治 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;H05K3/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 熊玉兰;李平英 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及无电解镀液、使用其的无电解镀方法及线路板的制造方法,所述无电解镀液对数μm~百数十μm大的槽或通孔也不产生空隙或线缝等缺陷,具有良好的镀敷埋入性,而且可以长时间维持稳定的性能。所述无电解镀液至少具有水溶性金属盐、来自该水溶性金属盐的金属离子的还原剂和络合剂,其含有硫类有机化合物作为均化剂,所述硫类有机化合物具有至少1个分别含有任意数目的碳原子、氧原子、磷原子、硫原子、氮原子的脂肪族环状基团或芳香族环状基团、或在该环状基团上键合有1个以上任意1种以上取代基的环状基团。 | ||
搜索关键词: | 电解 使用 方法 线路板 制造 | ||
【主权项】:
1、无电解镀液,其至少含有水溶性金属盐、还原剂和络合剂,同时含有包含下述通式(I)~(V)中任一个表示的至少1种硫类有机化合物的均化剂,R1-(S)n-R2 (I)R1-L1-(S)n-R2 (II)R1-L1-(S)n-L2-R2 (III)R1-(S)n-L3 (IV)R1-L1-(S)n-L3 (V)通式(I)~(V)中,n为1以上的整数,R1、R2分别独立地为分别含有任意数目的碳原子、氧原子、磷原子、硫原子、氮原子的脂肪族环状基团或芳香族环状基团、或在该环状基团上键合有1个以上任意1种以上取代基的环状基团,L1、L2分别独立地为直链或支链烷基链、烷氨基链、亚烷基链、烷氧基链中的任一个,L3为烷基、亚烷基、氨基、烷氨基、亚烷基氨基、羟基、烷基羟基、亚烷基羟基、羧基、烷基羧基、亚烷基羧基、烷氨基羧基、亚烷基氨基羧基、硝基、烷基硝基、腈基、烷基腈基、酰氨基、烷基酰氨基、羰基、烷基羰基、磺酸基、烷基磺酸基、膦酸基、烷基膦酸基、磺酰基、亚磺酰基、硫羰基中的任一个。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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