[发明专利]电容结构有效
| 申请号： | 200910173551.7 | 申请日： | 2009-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102024565A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 吴仕先;李明林;赖信助;刘淑芬;陈孟晖;洪金贤 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | H01G4/38 | 分类号： | H01G4/38;H01G4/005;H01G4/35;H01L29/92 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电容结构，其包括：第一电极层；第一介电层，设于该第一电极层上；以及第二电极层，设于第一介电层上，其中第一电极层与第二电极层至少其一具有凹凸结构，使第一电极层与第二电极层之间具有至少两种不同距离，形成至少两组电容值的并联效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电容 结构 | ||
【主权项】：
一种电容结构，包括：第一电极层；第一介电层，设于该第一电极层上；以及第二电极层，设于该第一介电层上，其中该第一电极层与第二电极层至少其一具有凹凸结构，使该第一电极层与该第二电极层之间具有至少两种不同距离，形成至少两组电容值的并联效果。
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