[发明专利]集成电路保护器件有效

专利信息
申请号: 200910177847.6 申请日: 2009-09-28
公开(公告)号: CN101859765A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 汤钦昕;李建兴 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L23/60;H01L21/82;H02H9/02
代理公司: 北京市德恒律师事务所 11306 代理人: 梁永
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 提出了一种集成电路的保护器件。所述保护器件包括NMOS器件。所述NMOS器件被连接到有源器件的栅极,如逆变器。所述保护器件可提供保护,免受等离子导致损伤(PID),如可危害有源器件的电荷效应。所述NMOS保护器件为处理过程中累积的电荷提供到电压源的路径,例如,接地或Vss。
搜索关键词: 集成电路 保护 器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:衬底;形成在衬底上的逆变器器件;保护器件,其中所述保护器件包括形成在衬底上的n沟道晶体管器件,并被连接到逆变器器件;和第一电压源,其中所述n沟道晶体管的源极被连接到所述第一电压源。
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