[发明专利]掩模图形校正方法以及掩模版制作方法

摘要

一种掩模图形校正方法以及掩模版制作方法，其中所述掩模图形校正方法包括：对待校正图形进行光学邻近校正，获得校正图形；根据所述校正图形，获得与其对应的工艺窗口；将所述工艺窗口与设定值进行比较；当所述工艺窗口小于所述设定值时，对所述初始校正图形重复上述校正，直至当所述工艺窗口大于或者等于所述设定值时，校正完成。本发明避免了将所有图案进行目标重置后再对每个图案进行光学邻近校正，简化了掩模图形的校正，节省了人力和时间，大大减少了校正时间，提高了生产效率。

主权项

一种掩模图形校正方法，包括：对待校正图形进行光学邻近校正，获得校正图形；根据所述校正图形，获得与其对应的工艺窗口；比较所述工艺窗口与设定值；当所述工艺窗口小于所述设定值时，对所述校正图形重复上述校正，直至当所述工艺窗口大于或者等于所述设定值时，校正完成。