[发明专利]共享存储单元的分栅式闪存无效

专利信息
申请号: 200910197127.6 申请日: 2009-10-13
公开(公告)号: CN101692453A 公开(公告)日: 2010-04-07
发明(设计)人: 曹子贵 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/423;G11C16/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种共享存储单元的分栅式闪存,包括:半导体衬底,其上具有间隔设置的源极区域和漏极区域;沟道区,位于所述源极区域和漏极区域之间;存储单元,位于所述沟道区上方;字线,位于所述存储单元上方;第一选择栅和第二选择栅,分别位于所述字线和存储单元两侧,其中,所述存储单元包括第一存储部分和第二存储部分,所述第一存储部分邻近第一选择栅,所述第二存储部分邻近第二选择栅,所述存储单元为氮化硅存储单元。本发明提出的共享存储单元的分栅式闪存,实现单字节存储面积缩小的同时,也可以避免过擦除的问题。
搜索关键词: 共享 存储 单元 分栅式 闪存
【主权项】:
一种共享存储单元的分栅式闪存,其特征在于,包括:半导体衬底,其上具有间隔设置的源极区域和漏极区域;沟道区,位于所述源极区域和漏极区域之间;存储单元,位于所述沟道区上方;字线,位于所述存储单元上方;第一选择栅和第二选择栅,分别位于所述字线和存储单元两侧,其中,所述存储单元包括第一存储部分和第二存储部分,所述第一存储部分邻近第一选择栅,所述第二存储部分邻近第二选择栅,所述存储单元为氮化硅存储单元。
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