[发明专利]用于沉积膜的方法和膜沉积装置有效
| 申请号： | 200910204460.5 | 申请日： | 2009-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101713066A | 公开（公告）日： | 2010-05-26 |
| 发明（设计）人： | 须志原友和;浮贺谷信贵 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;H01L21/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 钱亚卓 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于沉积膜的方法、膜沉积装置和用于制造包含有机材料的膜的方法，所述用于沉积膜的方法包括准备通过升华而被提纯的沉积材料，在降低含水量的环境中固化已提纯的沉积材料，通过降低含水量的环境将已固化的沉积材料输送至膜沉积室中，在膜沉积室中将已固化的沉积材料的膜沉积在基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用于沉积膜的方法，包括：准备通过升华而被提纯的沉积材料；在降低含水量的环境中固化已提纯的所述沉积材料；将已固化的所述沉积材料通过降低含水量的环境输送至膜沉积室中；以及在所述膜沉积室中将已固化的所述沉积材料的膜沉积在基板上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
