[发明专利]用于有机发光二极管显示装置的蚀刻剂组合物有效
| 申请号： | 200910205785.5 | 申请日： | 2009-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101684408A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | 具炳秀;朴贵弘;申贤哲;曺三永;李期范 | 申请（专利权）人： | 株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | C09K13/10 | 分类号： | C09K13/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁文蕴 |
| 地址： | 韩国仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种蚀刻剂组合物，包括：0.1-34wt％的过硫酸铵((NH4)2S2O8)；0.1-9wt％的硝酸基化合物；0.1-10wt％的乙酸基化合物；0.2-5wt％的含氟基化合物；0.01-3wt％的含硼化合物；以及39-73wt％的水，但是不含唑基化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 有机 发光二极管 显示装置 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻剂组合物，包括：过硫酸铵((NH4)2S2O8)0.1-34wt％；硝酸基化合物0.1-9wt％；乙酸基化合物0.1-10wt％；含氟基化合物0.2-5wt％；含硼化合物0.01-3wt％；以及水39-73wt％，但是不含唑基化合物。
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