[发明专利]用于针对双图案化过程进行光刻验证的方法和系统有效
| 申请号： | 200910207632.4 | 申请日： | 2009-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN101727520A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 宋华;王蓝天;G·T·卢克-帕特;J·P·希利 | 申请（专利权）人： | 新思科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于针对双图案化过程进行光刻验证的方法和系统。本发明的一个实施例提供一种针对掩膜布局的双图案化过程进行光刻验证而不进行掩膜布局的全轮廓仿真的系统。在操作期间，该系统通过接收双图案化过程的第一光刻步骤中使用的第一掩膜和双图案化过程的第二光刻步骤中使用的第二掩膜来启动。注意，通过划分掩膜布局来获得第一掩膜和第二掩膜。接着，该系统接收掩膜布局上的评估点。该系统然后确定评估点是只位于第一掩膜的多边形上、只位于第二掩膜的多边形上还是位于别处。该系统接着基于评估点是只位于第一掩膜的多边形上还是只位于第二掩膜的多边形上，在用于掩膜布局的评估点计算印刷指示符。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 针对 图案 过程 进行 光刻 验证 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于针对掩膜布局的双图案化过程进行光刻验证而不进行所述掩膜布局的全轮廓仿真的方法，所述方法包括：接收所述双图案化过程的第一光刻步骤中使用的第一掩膜和所述双图案化过程的第二光刻步骤中使用的第二掩膜，其中通过划分所述掩膜布局来获得所述第一掩膜和所述第二掩膜；接收所述掩膜布局上的评估点；确定所述评估点是只位于所述第一掩膜的多边形上、只位于所述第二掩膜的多边形上还是位于别处；以及基于所述评估点是只位于所述第一掩膜的多边形上、只位于所述第二掩膜的多边形上还是位于别处，在用于所述掩膜布局的所述评估点计算印刷指示符。
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