[发明专利]半穿透半反射式薄膜晶体管面板及其制造方法有效
申请号: | 200910209930.7 | 申请日: | 2009-10-29 |
公开(公告)号: | CN102054773A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 黄隽尧;韩家荣;洪仁财;马竣人 | 申请(专利权)人: | 华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L27/02;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 孙长龙 |
地址: | 215217 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种半穿透半反射式薄膜晶体管面板及其制造方法,具有一相变化材料层图案设于薄膜电上晶体的一保护层图案以及一像素电极图案上,且该相变化材料层表面为一凹凸不规则的表面,作为反射环境光的反射面。本发明还提供一种制造该半穿透半反射式液晶显示器的薄膜晶体管面板的方法。其特征在于形成一相变化材料层图案覆盖于薄膜电上晶体的该保护层图案上以及该像素电极图案上,然后施加能量于该相变化材料层图案表面,使该相变化材料层表面形成凹凸不规则的反射面。 | ||
搜索关键词: | 穿透 反射 薄膜晶体管 面板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半穿透半反射式薄膜晶体管面板的制造方法,其特征在于,该制造方法包括下列步骤:形成一栅极电极以及一电容电极于一基板上;形成一栅绝缘层覆盖于该栅极电极以及该电容电极上;形成一半导体层图案于该栅绝缘层上,以形成一通道区;形成一源极图案以及一漏极图案于该半导体层图案上,该漏极图案包含一第一区域以及一第二区域,其中该第一区域设置于该信道区上,该第二区域设置于该电容电极上;形成一保护层图案,以覆盖该半导体层图案、该源极图案以及该漏极图案上,并于该第一区域表面曝露一漏极接触孔;形成一像素电极图案于该保护层图案上,且透过该漏极接触孔电性连接于该漏极图案;形成一相变化材料层覆盖于该保护层图案上以及该像素电极图案上;图案化该相变化材料层;以及施加能量于该图案化的相变化材料层表面,以于该相变化材料层上形成复数个不规则凸块。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司,未经华映视讯(吴江)有限公司;中华映管股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910209930.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:垂直式闪存结构及其制造方法
- 下一篇:半导体器件的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造