[发明专利]用于化学气相沉积工艺的机台有效

专利信息
申请号: 200910211405.9 申请日: 2009-11-06
公开(公告)号: CN101696493A 公开(公告)日: 2010-04-21
发明(设计)人: 范纲维;吕家榛;赖立书;林世明 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 杨俊波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种用于化学气相沉积工艺的机台,其包含边框、导块、第一固定件和第二固定件。导块突出于边框的一边上,且向边框的中心方向延伸。第一固定件朝向边框的一侧开设凹口,第一固定件由陶瓷构成。第二固定件朝向第一固定件的一侧以可拆卸的方式嵌合于凹口,朝向导块的一侧包含沟槽,导块以可拆卸的方式嵌合于沟槽,第二固定件由铝合金并镀上陶瓷阳极膜构成。本发明提供的用于化学气相沉积工艺的机台,使用不易崩裂且可于化学气相沉积工艺机台上替换固定沟槽的陶瓷。
搜索关键词: 用于 化学 沉积 工艺 机台
【主权项】:
一种用于化学气相沉积工艺的机台,其特征在于,包含:一边框;一第一固定件,朝向该边框的一侧开设一凹口,该第一固定件由一第一材质构成;一第二固定件,其以朝向该第一固定件的一侧嵌合于该凹口,而另一侧包含一沟槽,该第二固定件由一第二材质构成;以及一导块,突出于该边框的一边上,并向该边框的中心方向延伸,且该导块嵌合于该沟槽内。
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