[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 200910222830.8 申请日: 2009-11-19
公开(公告)号: CN101740573A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 川原润;林喜宏;久米一平 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L29/92;H01L23/528
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种半导体器件。该半导体器件包括:半导体衬底;多层布线结构,该多层布线结构被形成在半导体衬底的上方并且其中层压其中的每一个都通过布线和绝缘层形成的多个布线层;以及电容元件,该电容元件具有被掩埋在多层布线结构中的上电极、下电极、以及电容器绝缘层,其中布线层中的至少两个或者更多被提供在被连接至下电极的下电容器布线与被连接至上电极的上电容器布线之间。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:半导体衬底;多层布线结构,该多层布线结构形成在所述半导体衬底的上方,并且在该多层布线结构中形成多个布线层,每个布线层由布线和绝缘层形成;以及电容元件,所述电容元件具有被掩埋在所述多层布线结构中的上电极、下电极以及电容器绝缘层,其中,所述布线层中的至少两个或者更多的布线层被提供在与所述下电极相连接的下电容器布线和与所述上电极相连接的上电容器布线之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩益禧电子股份有限公司,未经恩益禧电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910222830.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top