[发明专利]声界面波装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910222851.X 申请日: 2005-03-24
公开(公告)号: CN101714858A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 门田道雄;神藤始 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H9/64 分类号: H03H9/64;H03H3/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种频率偏差较小的声界面波装置的制造方法。该声界面波装置,按顺序叠层第1~第3媒质(1~3)、并且第1媒质(1)与第2媒质(2)间的界面上设有电极(5)。该制造方法中,准备叠层第1媒质(1)与第2媒质(2),并在第1、第2媒质(1、2)的界面中设有电极(5)的叠层体,在该叠层体阶段,通过调整第2媒质(2)的膜厚来调整频率或声表面波、伪声界面波或声界面波的声速,实施该调整后,形成声界面波的声速及/或材料与第2媒质不同的第3媒质(3)。
搜索关键词: 界面 装置 制造 方法
【主权项】:
一种声界面波装置的制造方法,该声界面波装置按顺序叠层有第1~第4媒质、且第1媒质与第2媒质间的界面上设有电极,该声界面波装置的制造方法,包括:准备按顺序叠层有第1~第3媒质、并在第1媒质与第2媒质的界面上设有电极的叠层体的工序;在上述叠层体阶段,调整第3媒质的膜厚,来调整频率、或声表面波、伪声界面波或声界面波的声速的调整工序;以及,上述调整工序后,形成声速及/或材料与第3媒质不同的第4媒质的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910222851.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top