[发明专利]光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 200910253786.7 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN101750916A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 郑钟铉;金俸均;朴弘植;洪瑄英;崔永柱;李炳珍;徐南锡;金炳郁;尹锡壹;郑宗铉;辛成健;许舜范;郑世桓;张斗瑛;朴善周;权五焕 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/82 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金拟粲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 根据一个或多个实施方法提供光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法。在一个或多个实施方式中，所述组合物包括约5-30重量％的链状胺化合物、约0.5-10重量％的环状胺化合物、约10-80重量％的二醇醚化合物、约5-30重量％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 薄膜晶体管 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
用于光刻胶剥离剂的组合物，包括：约5-30重量％的链状胺化合物；约0.5-10重量％的环状胺化合物；约10-80重量％的二醇醚化合物；约5-30重量％的蒸馏水；和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。
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