[发明专利]基板处理设备有效
| 申请号： | 200910254177.3 | 申请日： | 2009-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN101807508A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 康豪哲 | 申请（专利权）人： | 周星工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/46 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 邬少俊;王英 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种基板处理设备包括腔室，提供反应区域及包括彼此相对的第一及第二边；模块，连接到所述第一边；上电极，位于所述反应区域中；基板座，面对着所述上电极，其中在所述基板座上设置基板，且在所述基板上定义第一及第二点，其中所述第一点对应所述基板的中心，而所述第二点远离所述第一点而朝向着所述第一边；以及馈电线，用以施加RF功率，所述馈电线连接到上电极且对应着所述第二点。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种基板处理设备，包括：腔室，提供反应区域及包括彼此相对的第一及第二边；模块，连接到所述第一边；上电极，位于所述反应区域中；基板座，面对着所述上电极，其中在所述基板座上设置基板，且在所述基板上定义第一及第二点，其中所述第一点对应所述基板的中心，而所述第二点远离所述第一点而朝向着所述第一边；以及馈电线，用以施加RF功率，所述馈电线连接到所述上电极且对应着所述第二点。
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