[发明专利]新颖的膦硼烷化合物及其制造方法以及氢-膦硼烷化合物的制造方法有效
| 申请号： | 200910254275.7 | 申请日： | 2009-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN101747377A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 间山大辅 | 申请（专利权）人： | 日本化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07F9/6568 | 分类号： | C07F9/6568;C07F9/50 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京江*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供一种光学活性膦硼烷化合物及其制造方法，该光学活性膦硼烷化合物在制造光学活性膦配体方面有用，且可以容易地制造任意的对映体。本发明的膦硼烷化合物是以下述通式(P-1)表示。所述膦硼烷化合物的制造方法是使以下述通式(P-2)表示的氢-膦硼烷化合物与以下述通式(3)表示的光学活性异氰酸酯化合物进行偶合反应。下述式中，R1以及R2分别表示氢原子、烃基或者经取代的烃基，能够以通过这些基团的存在而使磷原子成为不对称原子的方式来选择，或者也能够以不使磷原子成为不对称原子的方式来选择，R3表示不对称烃基或者经取代的不对称烃基。 |
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| 搜索关键词： | 新颖 膦硼烷 化合物 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种膦硼烷化合物，其特征在于：所述膦硼烷化合物是以通式(P-1)表示，![]()
式中，R1以及R2分别独立地表示氢原子、烃基或者经取代的烃基，R3表示不对称烃基或者经取代的不对称烃基。
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