[发明专利]光学补偿的单向掩模版弯曲器有效
| 申请号： | 200910262265.8 | 申请日： | 2009-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101833246A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 圣地亚哥·E·德尔·普埃尔托 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学补偿的单向掩模版弯曲器。由光刻设备提供的图案化的聚焦误差被光学地校正，该聚焦误差由被图案化的衬底的拓扑产生。通过基于衬底的已绘制的拓扑围绕扫描轴线弯曲掩模版而提供在交叉扫描方向上的聚焦控制。在扫描掩模版时，可以从域至域地更新弯曲。弯曲可以是单向的(例如，仅向下)，但可以包括光学补偿元件(例如，抛光成圆柱形的透镜或反射镜或被力致动器弯曲成圆柱形的透明板或反射镜)，用于将正或负的曲率(或没有曲率)引入到辐射束的波前上，从而简化了弯曲器的机械电子学设计。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 补偿 单向 模版 弯曲 | ||
【主权项】：
一种包括图案形成装置处理器的光刻设备，所述光刻设备包括：支撑结构，所述支撑结构配置以支撑其上具有图案的给定的图案形成装置，所述图案形成装置被配置以将所述图案的至少一部分赋予入射的辐射束，所述支撑结构包括被配置以弯曲所述图案形成装置的弯曲器；和投影系统，所述投影系统设置在所述图案形成装置和衬底位置之间，所述投影系统能够将来自所述图案形成装置的所述辐射束投影到位于所述衬底位置处的衬底上。
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