[发明专利]还原敏感性的两亲性嵌段共聚物及其胶束无效

专利信息
申请号: 200910273157.0 申请日: 2009-12-11
公开(公告)号: CN101735410A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 蒋序林;李丽花;卓仁禧 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: C08F283/06 分类号: C08F283/06;C08F220/28;C08F220/60;C08J3/12;A61K47/32;A61K31/337;A61K31/4745;A61K31/704;A61P35/00
代理公司: 武汉天力专利事务所 42208 代理人: 程祥;冯卫平
地址: 430072*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种还原敏感性的两亲性嵌段共聚物,含亲水段组分聚乙二醇和疏水段组分,其中疏水段组分含有还原可降解的双硫键连接憎水性基团侧链的单体单元和甲基丙烯酸聚乙二醇酯或者丙烯酸聚乙二醇酯单体单元,该疏水段组分在还原条件下因双硫键连接断裂失去憎水性基团使疏水段组分转变成亲水性。该共聚物可以溶解在毒性很低的溶剂乙醇或者低温的水中。通过将该共聚物乙醇溶液直接加入水中或者简单的加热使溶于低温水中的热敏感性聚合物快速形成胶束纳米粒子和装载药物;所装载药物包封率很高,并且不需要使用有毒的有机溶剂。该类载药胶束粒子在储存运输和体液循环时很稳定地包覆药物,经肿瘤靶向进入细胞后很快降解释放出所载的有毒药物。
搜索关键词: 还原 敏感性 两亲性嵌段 共聚物 及其 胶束
【主权项】:
1.一种还原敏感性的两亲性嵌段共聚物,其结构为:其中R1为H或CH3;R2为H或CH3;R3为憎水性基团;m为聚乙二醇的聚合度,取值范围为20-1000;n=2-18;x∶y为3-0.25;还原敏感性的两亲性嵌段共聚物的分子量在5千-30万之间。
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