[发明专利]模仁以及微光学透镜阵列的制造方法无效
申请号: | 200910302641.1 | 申请日: | 2009-05-26 |
公开(公告)号: | CN101900842A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 骆世平 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G03F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种微光学透镜阵列的制造方法,其包括以下步骤:提供一个模仁,该模仁具有第一表面,该第一表面具有采用微影制程制作的第一标记,以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二标记;测得该第二标记相对该第一标记的偏移量;提供一基板,该基板具有一个第二表面;于该第二表面采用微影制程制作第三标记,该第三标记在该第二表面的位置与该第一标记在该第一表面的位置相同;先将该第三标记与该第一标记对准;再根据该偏移量移动该基板以使该第三标记与该第二标记对准;于该模仁或该基板上施加成型材料,并压印成型该微光学透镜阵列。本发明还提供一模仁。本发明提供的模仁以及微光学透镜阵列的制造方法可以提高对准精确度,提高产品良率。 | ||
搜索关键词: | 以及 微光 透镜 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种微光学透镜阵列的制造方法,其包括以下步骤:提供一个模仁,该模仁具有第一表面,该第一表面具有采用微影制程制作的第一标记,以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二标记;测得该第二标记相对该第一标记的偏移量;提供一基板,该基板具有一个第二表面;于该第二表面采用微影制程制作第三标记,该第三标记在该第二表面的位置与该第一标记在该第一表面的位置相同;先将该第三标记与该第一标记对准;再根据该偏移量移动该基板以使该第三标记与该第二标记对准;于该模仁或该基板上施加成型材料,并压印成型该微光学透镜阵列。
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