[发明专利]用以制造具有可辨识标记的基板的方法有效
申请号: | 200910309824.6 | 申请日: | 2009-11-16 |
公开(公告)号: | CN101726989A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 江佳铭;颜思琳;游辉钟 | 申请(专利权)人: | 华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L21/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350015 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明揭露一种用以制造具有可辨识标记的基板的方法,包含:提供一基板;于所述基板上规划至少二基板区域;提供一光罩,所述光罩上四角落各包含预先形成的至少一光罩辨识标记,其中所述光罩的周边范围是大于所述基板的周边范围,且所述些光罩辨识标记包含至少二类型的光罩辨识标记;及利用所述光罩于所述至少二基板区域上分别执行曝光,以于所述至少二基板区域上形成对应至所述些光罩辨识标记的至少八基板辨识标记,并使所述至少八基板辨识标记中至少二基板辨识标记因重复曝光而消失,藉此,在所述至少二基板区域上分别形成有对应至所述至少二类型的光罩辨识标记的所述些基板辨识标记。 | ||
搜索关键词: | 用以 制造 具有 辨识 标记 方法 | ||
【主权项】:
一种用以制造具有可辨识标记的基板的方法,其特征在于:包含:提供一基板;于该基板上规划至少二基板区域;提供一光罩,该光罩上四角落各包含预先形成的至少一光罩辨识标记,其中该光罩的周边范围是大于该基板的周边范围,且该些光罩辨识标记包含至少二类型的光罩辨识标记;及利用该光罩于该至少二基板区域上分别执行曝光,以于该至少二基板区域上形成对应至该些光罩辨识标记的至少八基板辨识标记,并使该至少八基板辨识标记中至少二基板辨识标记因重复曝光而消失,藉此,在该至少二基板区域上分别形成有对应至该至少二类型的光罩辨识标记的该些基板辨识标记。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司,未经华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910309824.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可用于光束整形的金属槽缝结构
- 下一篇:机载护目镜型头盔显示器光学系统
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备