[发明专利]蒸镀装置无效

专利信息
申请号: 200910310613.4 申请日: 2009-11-30
公开(公告)号: CN102080210A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 裴绍凯 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种蒸镀装置,其用于对基材进行镀膜;该蒸镀装置包括外壳及反应装置;外壳包括内侧壁及底壁,内侧壁设置有用于承载基材的工作区,底壁上开设有轴孔;反应装置容置在外壳内并通过转轴转动连接在轴孔内;反应装置包括外筒及容置在外筒中的内筒,外筒与内筒之间形成第一空间,内筒围成第二空间;第一空间内设置有放置膜料的坩埚及轰击膜料的电子枪,第二空间内设置有一离子源;外筒的外侧设置有多个与第一空间连通的第一喷口及与第二空间连通的第二喷口,从第一喷口喷出的气态膜料被从第二喷口喷出的氧化性离子气体氧化后附着于基材上。从反应装置喷射出的气态膜料与氧化性离子气体混合均匀,从而使膜料能完全氧化,有效提高镀膜质量。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
一种蒸镀装置,其用于对待镀膜基材进行镀膜;该蒸镀装置包括一外壳及一反应装置;所述外壳包括一内侧壁及一底壁,所述内侧壁设置有至少一工作区用于承载所述基材,所述底壁上开设有一轴孔;所述反应装置容置在外壳内并通过一转轴转动连接在轴孔内;反应装置包括外筒及容置在外筒中的内筒,外筒与内筒之间形成第一空间,内筒围成第二空间;所述第一空间内设置有用于放置膜料的坩埚及用于轰击膜料的电子枪,所述第二空间内设置有一离子源;所述外筒的外侧设置有多个与第一空间连通的第一喷口及与第二空间连通的第二喷口,从第一喷口喷出的气态膜料被从第二喷口喷出的氧化性离子气体氧化后附着于基材上。
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