[实用新型]真空显影机构无效
| 申请号： | 200920014335.3 | 申请日： | 2009-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN201444233U | 公开（公告）日： | 2010-04-28 |
| 发明（设计）人： | 宗润福;陈焱 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显影技术，具体为一种真空显影机构，解决现有技术在已有图形的基片表面进行曝光后，显影时容易出现图形底部显影不足甚至显不到等问题。该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影腔体之间加有密封圈；承片台和承片台底部的主轴连接，主轴和显影腔体间装有密封圈，显影和清洗的喷头装在上盖上。在显影时，该真空显影机构的显影腔体为真空腔体，显影工艺过程在真空环境下完成。本实用新型装置可作为核心模块嵌入全自动或独立式半自动显影设备中，用于MEMS、TSV制成的显影工艺中。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 显影 机构 | ||
【主权项】：
一种真空显影机构，其特征在于：该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影腔体之间加有密封圈；承片台和承片台底部的主轴连接，主轴和显影腔体间装有密封圈，显影和清洗的喷头装在上盖上。
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